Tetrakis（二甲基氨基）鉿 , (99.99+%-Hf, <0.2% Zr)
Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH, PURATREM
分子式: Hf(N(CH₃)₂)
分子量: 354.79
纯度: (99.99+%-Hf, <0.2% Zr)
| 包装 | 库存 | 价格 | |
|---|---|---|---|
暂无数据 | |||
收藏
基本信息
中文名称Tetrakis（二甲基氨基）鉿 | 英文名称Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH, PURATREM |
产品编号72-8000 | 分子式Hf(N(CH₃)₂) |
CAS号19782-68-4 | 分子量354.79 |
产品纯度(99.99+%-Hf, <0.2% Zr) | 存储温度(℃)Store at 2-8℃ |
安全信息
存储条件Store at 2-8℃ |
化学和物理性质
产品描述
Technical Notes:
1.ALD/CVD precursor for Hf thin film deposition.
References:
1. Chem. Mater. 2002. 14, 4350.
2.J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 3518.
3.Appl. Phys. L ett. 2007, 90, 182907.
4.Chem. Mater. 2004, 16.3497 .
5.Chem. Mater._ 2001 A 13. 2463.
6.Appl.Surf._ Sci.. 2014. 321, 214.
7.Adv. Mater. Interfaces 2020, Z, 2001493.
