化学品安全技术说明书（SDS）
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双(μ-二甲氨基)四(二甲氨基)镓, 98% , 98%
Bis(μ-dimethylamino)tetrakis(dimethylamino)digallium, 98%
分子式: C₁₂H₃₆Ga₂N
分子量: 403.90
纯度: 98%
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![(R)-4-tert-Butyl-2-[2-(diphenylphosphino)phenyl]-2-oxazoline, 98%, ee: 99%,(R)-4-叔丁基-2-[2-(二苯基膦基)苯基]-2-噁唑啉](https://static.jkchemical.com/Structure/143/1438790.png)
基本信息
中文名称双(μ-二甲氨基)四(二甲氨基)镓, 98% | 英文名称Bis(μ-dimethylamino)tetrakis(dimethylamino)digallium, 98% |
产品编号31-2030 | 分子式C₁₂H₃₆Ga₂N |
CAS号57731-40-5 | 分子量403.90 |
产品纯度98% | |
安全信息
化学和物理性质
产品描述
Technical Notes:
1. AL D/CVD precursor for gallium thin film deposition
References:
1. Polyhedron 1990, 9, 257
2. J. Vac. Sci. Technol. A, 1996, 14, 306
3. Chem. Mater. 2006, 18, 471
4.ECS Trans. 2009, 25, 617
5.Dalton Trans.. 2017, 46, 16551
6.J. Mater. Chem.. 2007, 17, 1308
7.J Vac. Sci. Technol. A, 2019, 37, 030906
8.ACS Appl. Energy Mater. 2020, 3, 7208
9.Chem. Mater. 2014., 26, 1 029
10. Mater. Today hem. 2018, 10, 142
11. J Mater. Chem. C, 2020, 8. 8457
