硅 , wafer, <111>, P-type, contains boron as dopant, diam. × thickness 2 in. × 0.3 mm
硅
危化品
分子式: Si
分子量: 28.09
纯度: wafer, <111>, P-type, contains boron as dopant, diam. × thickness 2 in. × 0.3 mm
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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