技术规格说明书（Specifications）
质检报告 (COA)
3038正胶显影液 , 2.380 ± 0.01wt%,高纯, 主成分TMAH
3038 Photoresist developer, 2.380 ± 0.01wt%, high-purity, main component TMAH
分子式: N/A
分子量: N/A
纯度: N/A
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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基本信息
安全信息
化学和物理性质
产品描述
作为半导体和微电子加工中，用于显影正性光刻胶的专用碱性溶液。
