三乙氧基(辛基)硅烷 , deposition grade, 97%, 99.99% trace metals basis
三乙氧基(辛基)硅烷
分子式: CH3(CH2)7Si(OC2H5)3
分子量: 276.49
纯度: deposition grade, 97%, 99.99% trace metals basis
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