碳化硅溅射靶, 50.8mm (2.0in) 直径 x 3.18mm (0.125in) 厚, 99.5% (metals basis 去除 B) , 99.5%
Silicon carbide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basis excluding B)
分子式: null
分子量: null
纯度: 99.5%
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