二氧化硅(IV)溅射靶, 50.8mm (2.0in) 直径 x 3.18mm (0.125in) 厚, 99.995% (metals basis) , 99.995%
Silicon(IV) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.995% (metals basis)
分子式: null
分子量: null
纯度: 99.995%
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