![Tetramethylammonium Hydroxide (10% in Methanol) [for Photoresist Research],四甲基氢氧化铵 (10%的甲醇溶液) [用于光刻胶研究]](https://static.jkchemical.com/Structure/457/457936.png)
四甲基氢氧化铵 (10%的甲醇溶液) [用于光刻胶研究]
Tetramethylammonium Hydroxide (10% in Methanol) [for Photoresist Research]
危化品
分子式: C4H13NO
分子量: 91.15 g/mol
纯度: null
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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