原子层沉积(ALD)已成为一种沉积功能薄膜的重要技术,它可以在纳米级尺度上精确控制物质成分和形貌,将被沉积物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面(图1)[1]。原子层沉积过程是通过连续、自限制的半反应实现的,因其沉积薄膜厚度可控性、均匀性、保形性等优异性能,被广泛应用于电子材料、太阳能电池等领域中[2]。
百灵威是集成式科技与工业资源平台,甄选高品质原子层沉积前体,助力电子材料等领域发展。
【活动】“折”里相遇,进口标准品三折起“go!”
开学“剂”,来相“惠”——催化剂系列限时活动
开学“剂”,来相“惠”——氘代试剂系列限时活动
马“氘”成功,风华绝“代”——龙年J&K试剂助您金“Nature榜”题名
【活动】活性蓝246(RB246)限时特惠中
绿色化学研究热点——光催化回收贵金属催化剂
生物催化与模拟酶—应用于环境分析
DNA/RNA Synthesis抑制剂选择指南
GB 31604.57-2023 食品接触材料及制品 二苯甲酮类物质迁移量的测定
原子层沉积(ALD)前体
石墨烯——多领域科研的好选择
多环芳烃——典型的碳纳米结构单元
多孔材料研究用试剂——多品种,高纯度