客服热线: 400-666-7788

原子层沉积(ALD)前体

原子层沉积(ALD)已成为一种沉积功能薄膜的重要技术,它可以在纳米级尺度上精确控制物质成分和形貌,将被沉积物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面(图1)[1]。原子层沉积过程是通过连续、自限制的半反应实现的,因其沉积薄膜厚度可控性、均匀性、保形性等优异性能,被广泛应用于电子材料、太阳能电池等领域中[2]

图1 原子层沉积反应示意图[1]

百灵威是集成式科技与工业资源平台,甄选高品质原子层沉积前体,助力电子材料等领域发展。

产品列表

1

品名:
Allyl(cyclopentadienyl)palladium(II), 98%
烯丙基(环戊二烯)钯(II)
CAS:1271-03-0
货号:46-0065

2

品名:
Bis(cyclopentadienyl)cobalt(II), min. 98% (Cobaltocene)
环戊二烯基钴
CAS:1277-43-6
货号:27-0475

3

品名:
Bis(cyclopentadienyl)nickel, 99% (Nickelocene)
双(环戊二烯)镍
CAS:1271-28-9
货号:28-1301

4

品名:
Bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)nickel(II), min. 98% (99.9%-Ni) [Ni(TMHD)2]
双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)镍(II)
CAS:14481-08-4
货号:28-0088

5

品名:
Manganese carbonyl, 98%
羰基锰
CAS:10170-69-1
货号:25-1330

6

品名:
Molybdenum carbonyl, 98%
六羰基钼
CAS:13939-06-5
货号:42-1350

7

品名:
Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM
四(二甲氨基)锡
CAS:1066-77-9
货号:50-1815

8

品名:
Palladium(II) hexafluoroacetylacetonate, min. 95%
1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮钯(II)
CAS:64916-48-9
货号:46-1870

9

品名:
Niobium(V) ethoxide (99.9+%-Nb)
乙醇铌/五乙氧基铌
CAS:3236-82-6
货号:93-4104

10

品名:
Tetravinyltin, 95%
四乙烯基锡
CAS:1112-56-7
货号:227842

11

品名:
Tungsten carbonyl, 99% (<0.3%-Mo)
六羰基钨
CAS:14040-11-0
货号:74-2200

12

品名:
Triruthenium dodecacarbonyl, 99%
十二羰基三钌
CAS:15243-33-1
货号:526096

13

品名:
Tris(3-hydroxypropyl)phosphine, min. 84%
三(3-羟基丙基)膦
CAS:4706-17-6
货号:15-6375

14

品名:
(Trimethyl)methylcyclopentadienylplatinum(IV), 99%
(三甲基)甲基环戊二烯合铂(IV)
CAS:94442-22-5
货号:78-1350

15

品名:
Vanadium(V) trichloride oxide, min. 99%
三氯氧钒
CAS:7727-18-6
货号:93-2305

16

品名:
Xenon(II) fluoride, 99.5%
二氟化氙
CAS:13709-36-9
货号:54-1500
点击查看更多
配套产品
不锈钢钢瓶(98-0270

点击查看更多
参考文献
  1. 原子层沉积工艺
  2. Richard W. Johnson, Adam Hultqvist, Stacey F. Bent. Materials Today, 2014, 17(5): 236-246.