光刻胶合成试剂——高纯度、质量稳定

光刻胶按其曝光原理的不同分为正性光刻胶和负性光刻胶,它是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分组成的光敏感性混合液体,广泛的应用于集成电路、半导体器件、平板显示器、触摸屏以及太阳能光伏材料等领域。

光刻胶单体、光引发剂和产酸剂是光刻胶合成中必不可少的原料,它们决定着光刻胶在曝光工艺中的光固化性能。为此,百灵威特甄选了产品纯度高,质量稳定的光刻胶合成原料供您选择。

  • 光刻胶单体:品种齐全,部分产品可提供大包装
  • 光引发剂:高纯度、高引发效率
  • 光产酸剂:产品纯度≥98%,产酸效率高
396012
5888-33-5
Isobornyl acrylate, 93%, stabilized with 200 - 400 ppm MEHQ
丙烯酸异冰片酯, 含稳定剂: 200 - 400 ppm MEHQ
25G, 100G, 500G
283760
121-46-0
Bicyclo[2.2.1]hepta-2,5-diene, 97%, stabilized with 0.05 - 0.25% BHT
双环[2.2.1]庚-2,5-二烯, 含稳定剂: 0.05 - 0.25% BHT
25ML, 100ML, 500ML
482829
2993-85-3
1H,1H,7H-Dodecafluoroheptyl acrylate, 98%
1H,1H,7H-十二氟庚基丙烯酸酯
25G
289722
36405-47-7
2,2,3,4,4,4-Hexafluorobutyl methacrylate, 98%
2,2,3,4,4,4-六氟丁基 甲基丙烯酸酯
5G, 25G
167389
98-86-2
Acetophenone, 98%
苯乙酮
500ML, 2.5L
319287
574-09-4
Benzoin ethyl ether, 99%
安息香乙醚
25G, 100G, 500G
点击查看更多产品列表