N-(2-吡啶基)硫脲产品介绍

时间: 2025-12-05
作者: 百灵威
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N-(2-吡啶基)硫脲产品介绍-百灵威

在齿科材料厂中,N-(2-吡啶基)硫脲(即1-(2-吡啶基)硫脲,CAS:14294-11-2)主要作为光聚合引发剂体系的关键组分应用于牙科粘固剂、填充复合材料等产品中,其核心用途及技术特点如下:

1. 作为自由基聚合引发剂组分

作用机制:

(2-吡啶基)硫脲与双酰基二烷基锗化合物(如双苯甲酰基二乙基锗)及氢过氧化物(如叔丁基过氧化物)组成三元氧化还原引发体系。该体系在光照或常温下引发甲基丙烯酸酯单体的自由基聚合,实现材料的快速固化。

技术优势:

替代传统胺类引发剂:避免胺类引发剂导致的材料变色(黄变)和生物相容性问题

双重固化能力:既可通过光照触发快速初固化,也能在光照不足区域(如牙体深部)通过氧化还原反应完成深层固化,提升临床操作适应性。

2. 具体应用材料类型

牙科粘固剂:用于固定嵌体、齿冠、齿桥,需高粘结强度及低收缩率。

填充复合材料:修复龋齿缺损,要求高耐磨性和美观性。

饰面材料与窝沟封闭剂:用于牙齿表面修复或防龋处理。

3. 配方中的关键参数

添加比例:

硫脲衍生物:0.01–4.0 wt.%(优选0.1–2.0 wt.%)

双酰基二烷基锗化合物:0.001–1.0 wt.%(优选0.005–0.5 wt.%)

氢过氧化物:0–3.0 wt.%(优选0.1–2.0 wt.%)

单体体系:

以甲基丙烯酸酯混合物为主,包括:

低挥发性单甲基丙烯酸酯(如对枯基苯氧乙二醇甲基丙烯酸酯,占比5–15 wt.%)

高粘性二甲基丙烯酸酯(如UDMA,占比5–15 wt.%)

低粘度二甲基丙烯酸酯(如TCDMA,占比10–20 wt.%)

填充物要求:

无机/有机颗粒填充物(占比40–80 wt.%),粒径需小于600 nm以提升材料机械强度和表面光洁度。

4. 性能优势与创新设计

无胺配方:避免传统樟脑醌/胺体系的老化变色问题,延长材料美观寿命。

低挥发性单体选择:减少口腔环境中的单体释放,提升生物安全性。

快速深层固化:30–80 ppm氧化还原催化剂可加速反应,固化深度达4–6 mm,优于普通光固化树脂。

核心产品
品名 CAS 货号
N-(2-Pyridyl)thiourea, 98%
N-(2-吡啶基)硫脲
14294-11-2 551129
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