用于聚焦电子束诱导沉积(FEBID)的钌前体

时间: 2020-12-17
作者: 百灵威
分享:
用于聚焦电子束诱导沉积(FEBID)的钌前体-百灵威

使用聚焦电子束诱导沉积(FEBID),可实现三维金属纳米结构的独立生长。此化学气相沉积(CVD)过程在扫描电子显微镜(SEM)中进行,其中电子束提供的能量作为“笔”,易挥发的前体充当“墨水”,即金属源,从而实现各种金属的“书写”,包括银Ag、金Au、钴Co、铁Fe和钨W[1-5]

 (η<sup>3</sup>-allyl)Ru(CO)<sub>3</sub>Br<br><br>
3-allyl)Ru(CO)3Br

沉积物纯度在很大程度上取决于前体的化学性质。通常,优先选含碳量低的金属有机化合物,以增加纳米结构中的金属含量。已知羰基基团在电子辐照下很容易弹出,而环戊二烯基配体是较差的离去基团[5]。 将 (η3-allyl)Ru(CO)3Br成功引入FEBID,作为(EtCp)2Ru替代品,在形成气体处理后产生的金属纯度可达83%[2]

3-allyl)Ru(CO)3Br前体还可用于紫外光诱导的辅助式CVD。这种低温过程可实现钌Ru在自组装单层膜(SAMs)和聚合物等有机表面上的生长[6-7]

参考文献:
  1. Eur. Phys. J. D 2019, 73, 227
  2. ACS Appl. Mater. Interfaces 2019, 11, 28164
  3. Phys. Chem. Chem. Phys. 2017, 19, 13264
  4. Eur. Phys. J. D 2016, 70, 164
  5. J. Phys. Chem. C ,2015, 119, 15349−15359
  6. Organometallics 2019, 38, 4363
  7. J. Chem. Phys. 2017, 146, 052816

相关产品
化学气相沉积与原子层沉积前体
    advertisement