使用聚焦电子束诱导沉积(FEBID),可实现三维金属纳米结构的独立生长。此化学气相沉积(CVD)过程在扫描电子显微镜(SEM)中进行,其中电子束提供的能量作为“笔”,易挥发的前体充当“墨水”,即金属源,从而实现各种金属的“书写”,包括银Ag、金Au、钴Co、铁Fe和钨W[1-5] 。
沉积物纯度在很大程度上取决于前体的化学性质。通常,优先选含碳量低的金属有机化合物,以增加纳米结构中的金属含量。已知羰基基团在电子辐照下很容易弹出,而环戊二烯基配体是较差的离去基团[5]。 将 (η3-allyl)Ru(CO)3Br成功引入FEBID,作为(EtCp)2Ru替代品,在形成气体处理后产生的金属纯度可达83%[2]。
(η3-allyl)Ru(CO)3Br前体还可用于紫外光诱导的辅助式CVD。这种低温过程可实现钌Ru在自组装单层膜(SAMs)和聚合物等有机表面上的生长[6-7]。