电子级溶剂:高科技产业精密制造的核心助力

时间: 2025-03-20
作者: 百灵威
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电子级溶剂:高科技产业精密制造的核心助力-百灵威

    在半导体、显示面板、光伏等高科技产业中,每一个微小的细节都可能决定产品的成败。作为电子制造的核心材料之一,电子级溶剂以其超高纯度、超低杂质和卓越的稳定性,成为精密制造过程中不可或缺的“隐形守护者”。

应用场景:
  • 半导体制造:
  • 用于晶圆清洗、光刻胶稀释、蚀刻等关键工艺,助力芯片性能提升。
  • 显示面板生产:
  • 为LCD、OLED等显示器的清洗和涂层工艺提供高效解决方案。
  • 光伏材料加工:
  • 用于太阳能电池的清洗和制造,推动绿色能源发展。
  • 集成电路封装:
  • 在芯片封装过程中提供高效的清洗和去胶支持。

百灵威新品电子级溶剂严格把关质量控制体系,产品符合SEMI等级G3标准。

产品优势:
  • - 18种金属杂质含量≤2.5ppb
  • - 经0.05孔径过滤器过滤,控制0.2微米粒子,可用于0.2-0.8微米集成电路加工工艺
  • - 专业无尘车间灌装
产品列表
品名 CAS 货号
Propylene glycol methyl ether acetate, 99.9%, ELH-Ⅲ
丙二醇单甲醚乙酸酯
108-65-6 976499
Acetonitrile, 99.9%, ELH-Ⅲ
乙腈
75-05-8 905549
危化品
Cyclohexanone, 99.9%, ELH-Ⅲ
环己酮
108-94-1 927778
危化品
1-Butanol, 99.8%, ELH-Ⅲ
正丁醇
71-36-3 921458
危化品
Butyl acetate, 99.5%, EL-Ⅲ
乙酸丁酯
123-86-4 977722
危化品
Cyclohexane, 99%, EL-Ⅲ
环己烷
110-82-7 933461
危化品
Cyclopentanone, 99.8%, EL-Ⅲ
环戊酮
120-92-3 926251
危化品
Dichloromethane, 99.9%, EL-Ⅲ
二氯甲烷
75-09-2 980992
危化品
Dimethyl sulfoxide, 99.5%, EL-Ⅲ
二甲基亚砜
67-68-5 971012
Ethanol, 99.8%, EL-Ⅲ
乙醇
64-17-5 903038
危化品
Ethyl acetate, 99.9%, ELH-Ⅲ
乙酸乙酯
141-78-6 945129
危化品
Ethyl lactate, 99.95%, ELH-Ⅲ
乳酸乙酯
97-64-3 997203
危化品
n-Heptane, 99%, EL-Ⅲ
正庚烷
142-82-5 945280
危化品
Methanol, 99.9%, ELH-Ⅲ
甲醇
67-56-1 922546
危化品
Methyl tert-butyl ether, 99.8%, EL-Ⅲ
甲基叔丁基醚
1634-04-4 967132
危化品
N,N-Dimethylformamide, 99.8%, EL-Ⅲ
N,N-二甲基甲酰胺
68-12-2 923828
危化品
n-Hexane, 99%, EL-Ⅲ
正己烷
110-54-3 950555
危化品
N-Methyl-2-pyrrolidone, 99.5%, EL-Ⅲ
N-甲基吡咯烷酮
872-50-4 905771
Isopropanol, 99.9%, ELH-Ⅲ
异丙醇
67-63-0 984033
危化品
1-Methoxy-2-propanol, 99.5%, EL-Ⅲ
丙二醇甲醚
107-98-2 961459
Pyridine, 99.9%, ELH-Ⅲ
吡啶
110-86-1 969292
危化品
Tetrahydrofuran, 99.8%, EL-Ⅲ
四氢呋喃
109-99-9 972427
危化品
Xylenes, 99.5%, EL-Ⅲ
二甲苯
1330-20-7 973389
危化品
功能性湿化学品
品名 CAS 货号
Negative adhesive rinsing solution FP-A, 99.8%, High purity
负胶漂洗液FP-A
/ 9393344
Negative gel developer FX-A, 95%, High purity
负胶显影液FX-A
/ 9393343
3038 Photoresist developer, 2.380 ± 0.01wt%, high-purity, main component TMAH
3038正胶显影液
/ 9393345
相关产品推荐;

1、石墨烯晶圆

一、光刻胶合成用试剂
产品名称 货号 产品详情
单层单晶石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,粗糙度:<1 nm,4英寸 9426669 1. 尺寸:4 inch 2. 粗糙度:<1 nm 3. 单层覆盖率:>99% 4. 石墨烯覆盖率:>99% 5.面电阻:<300 Ω/sq (SiO2/Si 衬底)
单层单晶石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,粗糙度:<1 nm,6英寸 9426670 1. 尺寸:4 inch 2. 粗糙度:<1 nm 3. 单层覆盖率:>99% 4. 石墨烯覆盖率:>99% 5.面电阻:<300 Ω/sq (SiO2/Si 衬底)
无转移高品质石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,1层(单层率90%以上),透光率85.7%,2英寸 9426699 1层(单层率90%以上) 透光率(可见光波段):87.5% 面电阻(Ω/Sq):低于1500
无转移高品质石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,1层(单层率90%以上),透光率85.7%,4英寸 9426700 1层(单层率90%以上) 透光率(可见光波段):87.5% 面电阻(Ω/Sq):低于1500
无转移高品质石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,1层(单层率90%以上),透光率85.7%,6英寸 9426701 1层(单层率90%以上) 透光率(可见光波段):87.5% 面电阻(Ω/Sq):低于1500
无转移石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,3-5层,2英寸,1 EA=10 pcs 9426702 3-5层 透光率(可见光波段):81.1-76.5% 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,5-7层,4英寸,1 EA=10 pcs 9426703 5-7层 透光率(可见光波段):76.5-71.9% 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,5-7层,6英寸,1 EA=3 pcs 9426704 5-7层 透光率(可见光波段):76.5-71.9% 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为蓝宝石,8-10层,8英寸 9426705 8-10层 透光率(可见光波段):76.5-71.9% 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为SiO2/Si,面电阻低于3000,2英寸,1 EA=10 pcs 9426706 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为SiO2/Si,面电阻低于3000,4英寸,1 EA=10 pcs 9426707 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为SiO2/Si,面电阻低于3000,6英寸,1 EA=3 pcs 9426708 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为SiO2/Si,面电阻低于3000,8英寸 9426709 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为石英,面电阻低于3000,12英寸 9426710 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为石英,面电阻低于3000,2英寸,1 EA=10 pcs 9426711 3-5层 透光率(可见光波段):81.1-76.5% 面电阻(Ω/Sq):低于3000
无转移石墨烯晶圆,衬底为石英,面电阻低于3000,4英寸,1 EA=10 pcs 9426712 5-7层 透光率(可见光波段):76.5-71.9% 面电阻(Ω/Sq):低于3000
品名 CAS 货号
Benzoin methyl ether, 98%
安息香甲基醚
3524-62-7 528064
Diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, 99%
(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦
75980-60-8 567999
Tetramethylammonium hydroxide, 25% solution in H2O
四甲基氢氧化铵
75-59-2 457936
危化品
3-(Trimethoxysilyl)propyl methacrylate, 98%
3-(三甲氧基甲硅基)甲基丙烯酸丙酯
2530-85-0 175528
Isobornyl acrylate, 93%, stabilized with 200 - 400 ppm MEHQ
丙烯酸异冰片酯
5888-33-5 396012
Trichloro(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane, 97%
三氯(1H,1H,2H,2H-全氟辛基)硅烷
78560-45-9 549606
1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 99%
1-羟基环己基苯基甲酮
947-19-3 330139
2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 99%
2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮
24650-42-8 543244
3-Mercaptopropyltrimethoxysilane, 97%
3-巯基丙基三甲氧基硅烷
4420-74-0 180573
Methyl methacrylate, 99%
甲基丙烯酸甲酯
80-62-6 153563
危化品
2,2-Diethoxyacetophenone, 97%
2,2-二乙氧基苯乙酮
6175-45-7 131709
More
MORE(https://www.jkchemical.com/post/11057)
二、化学气相沉积(CVD)/原子层气相沉积(ALD)前驱体
品名 CAS 货号
Trimethyl(methylcyclopentadienyl)platinum(IV), 99%
三甲基(甲基环戊二烯基)合铂(IV)
94442-22-5 218004
3,3',3''-Phosphinetriyltris(propan-1-ol), 80%
三(3-羟基丙基)膦
4706-17-6 969970
Tungsten hexacarbonyl, 99%
六羰基钨
14040-11-0 194282
Tris(N,N'-di-i-propylformamidinato)lanthanum(III), (99.999+%-La) PURATREM La-FMD
三(N,N'-二-异丙基甲脒)镧(III)
1034537-36-4 57-1200
Trimethyl(methylcyclopentadienyl)platinum(IV), 99%
三甲基(甲基环戊二烯基)合铂(IV)
94442-22-5 218004
Xenon(II) fluoride, 99.5%
二氟化氙
13709-36-9 54-1500
Bis(diethylamino)silane, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
二(二乙氨基)硅烷
27804-64-4 957403
Tris(dimethylamino)arsine, 99%
三(二甲氨基)砷
6596-96-9 33-5000
Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV), 99%
四(二甲胺基)铪
19782-68-4 622857
Bis(tri-isopropylcyclopentadienyl)strontium 98%
双(三异丙基环戊二烯基)锶,98%
147658-82-0 38-1200
Tetrakis(dimethylamino)titanium, 97%
四(二甲氨基)钛
3275-24-9 135549
Tetrakis(dimethylamido)tin(IV), 99.9%, trace metal basis
四(二甲氨基)锡(IV)
1066-77-9 542675
Tris(dimethylamino)gallium(III) dimer, 98%
三(二甲胺基)镓(III)二聚体
57731-40-5 626076
Tris(butylcyclopentadienyl)yttrium (99.9%-Y) (REO)
三(丁基环戊二烯)钇(III)
312739-77-8 39-4950
Tris(methylcyclopentadienyl)yttrium, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
三(甲基环戊二烯)化钇(III)
329735-72-0 634274
Bis(cyclopentadienyl)cobalt(II), 98%
双(环戊二烯)钴
1277-43-6 964056
Triruthenium dodecacarbonyl, 99%
十二羰基三钌
15243-33-1 526096
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三、电子氟化液
品名 CAS 货号
173 Fluorinated liquid, Used for leak detection and cooling working fluid
173氟化液
/ 9435344
1700 Electronic nano coating
1700电子纳米涂层
/ 9435345
3283 Fluorinated liquid, Used as a cooling working fluid
3283氟化液
/ 9435346
7000 electronic fluorine solution, Used as a cooling working fluid
7000电子氟化液
/ 9435353
7100 Fluorinated liquid, Used for leak detection and cooling working fluid
7100氟化液
/ 9435354
7200 Electron fluoride solution, Used as a cooling working fluid
7200电子氟化液
/ 9435347
7300 Electronic fluorine solution, Used as a cleaning agent
7300电子氟化液
/ 9435355
7500 electronic fluorine solution, Used as a cooling working fluid
7500电子氟化液
/ 9435348
四、蚀刻剂
品名 CAS 货号
Gold etchant
金蚀刻剂
/ 044584
金蚀刻剂,与镍相容
金蚀刻剂,与镍相容
402518-42-7 651842
Copper etchant
铜蚀刻剂
/ 044583
铜蚀刻剂
铜蚀刻剂
200127-30-6 667528
Chromium etchant
铬蚀刻剂
/ 044582
Aluminum etchant
铝蚀刻剂
/ 044581
Nichrome etchant
镍铬合金蚀刻剂
/ 044585
镍铬合金蚀刻剂
镍铬合金蚀刻剂
/ 651834
Molybdenum etchant
钼蚀刻剂
/ 044768
Negative gel developer FX-A, 95%, High purity
负胶显影液FX-A
/ 9393343
3038 Photoresist developer, 2.380 ± 0.01wt%, high-purity, main component TMAH
3038正胶显影液
/ 9393345
陶瓷蚀刻剂 A
陶瓷蚀刻剂 A
/ 667447
五、化学镀、电镀试剂
品名 CAS 货号
Nickel plating solution, electroless
镍电镀液, 无电镀
/ 044069
Nickel plating solution, electroless, ammonia free
镍电镀液, 无电镀, 无氨
/ 044070
Nickel plating solution, electroless, for copper and copper alloys
镍电镀溶液, 无电镀的,用于铜或铜合金
/ 044215
Silver plating solution, electroless, metal content ^=2.1g/l
银电镀液, 无电镀, 金属含量≈2.1g/l
/ 044068
Nickel plating solution, bright finish
镍电镀溶液, 光面
/ 042027
Tin Lead plating solution
锡铅电镀液
/ 044071
Nickel plating solution, electroless, solution A
镍电镀溶液, electroless, 溶液A
/ 042308
Nickel plating solution, matte finish
镍电镀溶液, 粗糙面
/ 042025
Nickel plating solution, semi-bright finish
镍电镀溶液, 半光面
/ 042026
Nickel plating solution, electroless, solution B
镍电镀溶液, electroless, 溶液B
/ 042309
Lead plating solution, metal content ^=82.2g/l
铅电镀液, 金属含量≈82.2g/l
/ 044073
Tin plating solution, metal content ^=82.2g/l
锡电镀液, 金属含量≈82.2g/l
/ 044074
Gold plating solution, electroless, metal content ^=3.7g/l
镀金液, 无电镀的, 金属含量≈3.7g/l
/ 042307
硫酸镍(II)
硫酸镍(II)
7786-81-4 656895
危化品
氯化镍(II)
氯化镍(II)
7718-54-9 451193
危化品
Cobalt(II) sulfate heptahydrate, Puratronic|r, 99.999% (metals basis)
硫酸钴(II), 七水化合物,Puratronic?, 99.999% (metals basis)
10026-24-1 010696
危化品
Copper(II) acetate, 99.999% (metals basis)
醋酸铜(II), 99.999% (metals basis)
142-71-2 044355
次磷酸钠
次磷酸钠
7681-53-0 04434
Citric acid, 99.5%, AR
柠檬酸
77-92-9 140159
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